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單晶硅片超聲波清洗機(jī)是一種用于清洗晶硅片等精密零部件的一種清洗設(shè)備，經(jīng)切片、研磨、倒角、拋光等多道工序加工成的硅片，

其表面已吸附了各種雜質(zhì)，如顆粒、金屬粒子、硅粉粉塵及有機(jī)雜質(zhì)，在進(jìn)行擴(kuò)散前需要進(jìn)行清洗，消除各類(lèi)污染物且清洗的潔凈程度直接影響著電池片的成品率和可靠率。清洗主要是利用NaOH、HF、HCL等化學(xué)液對(duì)硅片進(jìn)行腐蝕處理，去除硅片表面的機(jī)械損傷層，對(duì)硅片的表面進(jìn)行凹凸面(金字塔絨面）處理，增加光在太陽(yáng)電池片表面的折射次數(shù)，利于太陽(yáng)電池片對(duì)光的吸收，以達(dá)到電池片對(duì)太陽(yáng)能價(jià)值的最大利用率，清除表面硅酸鈉、氧化物、油污以及金屬離子雜質(zhì)。倒角前清洗：主要利用熱堿溶液和超聲波振板對(duì)已切成的硅片進(jìn)行表面清洗，以去除硅片表面的粘接劑、有機(jī)物和硅粉等。

單晶硅超聲波清洗機(jī)是通過(guò)超聲波振動(dòng)在液體中形成微小的氣泡，這些氣泡由于超聲波空化作用快速地破裂而產(chǎn)生微小的擦洗從而出去單晶硅片表面的污染物。超聲波清洗技術(shù)在半導(dǎo)體行業(yè)中已經(jīng)是一種廣泛應(yīng)用到的清洗方式，它具有清洗效果好、操作簡(jiǎn)單等優(yōu)勢(shì)。在單晶硅片的制作過(guò)程中大部分步驟為清洗工藝，在清洗硅片中應(yīng)正確的使用單晶硅片超聲波清洗機(jī)，單晶硅片的潔凈度對(duì)半導(dǎo)體器件的性能起著至關(guān)重要的作用。

超聲波清洗機(jī)輔助清洗：

顆粒沾污:運(yùn)用物理方法，可采取機(jī)械擦洗或超聲波清洗技術(shù)來(lái)去除超聲波清洗時(shí)，由于空洞現(xiàn)象，只能去除 ≥ 0.4 um顆粒。兆聲清洗時(shí)，由于0.8Mhz的加速度作用，能去除≥ 0.2 um 顆粒，即使液溫下降到40℃也能得到與80℃超聲清洗去除顆粒的效果，而且又可避免超聲洗硅片產(chǎn)生損傷。

化學(xué)清洗劑清洗

硅片化學(xué)清洗的主要目的是針對(duì)上述可能存在的硅片表面雜質(zhì)進(jìn)行去除。常用的化學(xué)清洗劑有高純水、有機(jī)溶劑(如田苯、二甲苯、丙酮、三氯乙烯、四氯化碳等)、濃酸、強(qiáng)堿以及高純中性洗滌劑等。

硅片的干燥工藝

硅片清洗的最后一個(gè)步驟就是硅片的烘干。烘干的目的主要是防止硅片再污染及在硅片表面產(chǎn)生印記。僅僅在去離子水沖洗后，在空氣中風(fēng)干是遠(yuǎn)遠(yuǎn)不夠的。一般可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)烘干，或通過(guò)熱空氣或熱氮?dú)馐构杵兏?。另外的方法是通過(guò)在硅片表面涂拭易于揮發(fā)的液體，如異丙醇等，通過(guò)液體的快速揮發(fā)來(lái)干燥硅片表面。