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集成電路襯底硅片的超聲波清洗工藝

時(shí)間:2023-04-22| 作者:admin

集成電路襯底硅片的超聲波清洗工藝
科力超聲-提供全方位的工業(yè)超聲清洗技術(shù)


硅片超聲波清洗機(jī).jpg



①超聲波清洗劑清洗:將1號(hào)槽中 放人清洗劑并加入5-10倍去離子水,將硅片裝入花籃中,超聲波常溫浸泡清洗 5-10min

②超聲波清洗劑清洗:將2號(hào)槽中 放人清洗劑并加入5-10倍去離子水加熱到50?60°C,將硅片花籃從第一槽中取出,放入第二槽, 進(jìn)行超聲清洗5-10min

③超聲波DI水漂洗: 將DI水放入第三槽(第四槽溢流至第三槽),加熱到50? 60°C,將硅片花籃從第二槽中取出,放入 第三槽,進(jìn)行超聲DI水漂洗5-10min

④超聲波DI水漂洗:將DI水注入第四槽,加熱到 50?60°C,將硅片花籃從第三槽中取出, 放人第四槽,進(jìn)行超聲DI水漂洗5-10min

⑤噴淋清洗: 用溫度為50?60°C的DI水對硅片進(jìn)行噴淋清洗,時(shí)間為2?5min;

⑥烘干:用熱風(fēng)或 紅外進(jìn)行烘干,時(shí)間為3?5min。

超聲波清洗機(jī)特點(diǎn)此超聲波清洗工藝能夠克服刷片清洗 和RCA清洗自身難以克服的缺點(diǎn),達(dá)到 較好的清洗效果;工藝簡單,操作方便; 滿足環(huán)保要求。主要用途適用于各種集成電路清洗、 電子設(shè)備清洗及電子儀器清洗等。安全性一般對各種晶集成電路及半導(dǎo) 體清洗等均無腐蝕,不含氟利昂和氫氯氟 烴類物質(zhì),不易燃,揮發(fā)速率極快,不留 任何殘?jiān)话踩?、環(huán)保。


超音波清洗根據(jù)使用頻率的不同,清洗的機(jī)理和用途也不同。一般來說,在低頻中容易發(fā)生被稱為氣蝕現(xiàn)象(Cavitation)的現(xiàn)象,利用氣泡破裂時(shí)的沖擊波可以進(jìn)行強(qiáng)力的清洗。另一方面,在高頻中,液體分子的加速度運(yùn)動(dòng)的影響很大,可以進(jìn)行比較平穩(wěn)的清洗。

清洗力和對工作(被洗凈物)的傷害是折中的關(guān)系,根據(jù)洗凈對象的【臟污】的種類和工作的強(qiáng)度來選擇適當(dāng)?shù)念l率是很重要的。