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半導體行業(yè)中為了讓硅片清洗的更干凈，應用超聲波清洗設備來對硅片表面進行超聲波清洗是目前行業(yè)內(nèi)普遍采用的方法。超聲波清洗的功率、頻率、尺寸、清洗劑溫度的選擇都是與硅片清潔程度有著密切的關系。

超聲波清洗的原理

超聲波清洗是利用超聲波在液體中的空化作用、加速度作用及直進流作用對液體和污物直接、間接的作用，使污物層被分散、乳化、剝離而達到清洗目的。目前所用的超聲波清洗機中，空化作用和直進流作用應用得更多。

超聲波的空化作用：空化作用就是超聲波以每秒兩萬次以上的壓縮力和減壓力交互性的高頻變換方式向液體進行透射。在減壓力作用時，液體中產(chǎn)生真空核群泡的現(xiàn)象，在壓縮力作用時，真空核群泡受壓力壓碎時產(chǎn)生強大的沖擊力，由此剝離被清洗物表面的污垢，從而達到精密洗凈目的。  在超聲波清洗過程中，肉眼能看見的泡并不是真空核群泡，而是空氣氣泡，它對空化作用產(chǎn)生抑制作用降低清洗效率。只有液體中的空氣氣泡被完全脫氣，空化作用的真空核群泡才能達到最佳效果。

超聲波的直進流作用：超聲波在液體中沿聲的傳播方向產(chǎn)生流動的現(xiàn)象稱為直進流。聲波強度在0.5W/cm2時，肉眼能看到直進流，垂直于振動面產(chǎn)生流動，流速約為10cm/s。通過此直進流使被清洗物表面的微油污垢被攪拌，污垢表面的清洗液也產(chǎn)生對流，溶解污物的溶解液與新液混合，使溶解速度加快，對污物的搬運起著很大的作用。

超聲波的加速度：液體粒子推動產(chǎn)生的加速度。對于頻率較高的超聲波清洗機，空化作用就很不顯著了，這時的清洗主要靠液體粒子超聲作用下的加速度撞擊粒子對污物進行超精密清洗。

超聲波清洗功率和頻率的選擇

超聲波清洗機功率的選擇：

超聲波清洗的效果不一定與（功率×清洗時間）成正比，有時用小功率，花費很長時間也沒有清除污垢。而如果功率達到一定數(shù)值，有時很快便將污垢去除。若選擇功率太大，空化強度將大大增加，清洗效果是提高了，但這時使較精密的零件也產(chǎn)生蝕點，得不償失，而且清洗缸底部振動板處空化嚴重，水點腐蝕也增大，在采用三氯乙烯等有機溶劑時，基本上沒有問題，但采用水或水溶性清洗液時，易于受到水點腐蝕，如果振動板表面已受到傷痕，強功率下水底產(chǎn)生空化腐蝕更嚴重，因此要按實際使用情況選擇超聲功率。

超聲波清洗機頻率的選擇：

超聲頻率的大小是超聲能量的反映，對于不同大小的臟物所適用的頻率不盡相同。不同頻率針對的顆粒大小也不同，詳見下表：

不同的超聲波清洗頻率有不同的優(yōu)缺點，選擇合適的超聲波頻率對于硅片零部件清洗的潔凈程度有著至關重要的影響。選擇依據(jù)大概如下：①低頻超聲能清洗很臟的硅片，具有很強的清洗力，但也容易損傷硅片；②高頻率超聲能清洗細小的臟物，很臟的硅片污染物洗不掉。