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什么是超聲波清洗機？

超聲波清洗是一種將超聲波傳播到液體（如水或清洗液）以清潔非清潔物體（工件）的技術。 超聲波在工業(yè)清洗中的作用廣泛應用于清洗、剝離、分散、脫氣等各個領域。

超聲波清洗原理

超聲波清洗通過將超聲波的“物理作用”與清洗液的“化學作用”相結(jié)合，獲得了清洗效果。

● 物理作用                                                           ● 化學作用

氣穴 、 振動加速度 、 直流等 ， 剝離 、 分散 、 乳化污垢 ；清洗液的化學作用和超聲波的化學反應促進作用溶解、分解污垢 。

超聲波清洗

英語標注：ultrasonic cleaning

如何清潔半導體晶圓。 在進行CMP后附著在半導體晶圓表面的磨料顆粒、廢料，用于去除反應產(chǎn)物等異物。 頻率范圍為 20 到 100kHz。 超聲波清洗具有振動引起的氣穴效應和物理、化學反應促進作用。 前者通過超聲波產(chǎn)生氣穴（腔），消失重復，當氣穴消失時，附著在晶圓表面的異物被吸入和剝離。 后者，超聲波清洗液的消泡，乳化作用去除異物，促進異物和液體之間的反應。 洗滌液，表面活性劑水溶液除了水，酸和堿性水溶液使用。 殘留異物除了在進行CMP后在工藝中擴散到器件等弊端外，還妨礙了導致斷裂的拋光劃痕檢測。 因此，根據(jù)異物類型選擇的清洗液。

超聲波清洗設備

英語標注：ultrasonic cleaning equipment

一種使用高于可聽頻率的聲音（20KHz 或更高振動：超聲波）來清潔半導體部件的裝置，主要由硅片制成。 在清洗液中，超聲波氣穴（在液體中產(chǎn)生，真空氣泡重復破碎）和液體的振動速率等去除污垢。 用于洗滌的頻率約為30kHz~1MHz，在低頻下，氣穴主體的清潔力，當頻率增加時，加速度主體的清潔力起作用。