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脫氣模式 - 快速脫氣

變波模式- 全波和半波交替工作

掃頻模式- 均勻的超聲波清洗（不支持內(nèi)置超聲波發(fā)生器）

脈沖模式 -用于頑固污染（不支持內(nèi)置超聲波發(fā)生器）

雙頻模式-用于兩種頻率替換工作

三頻模式-用于三種頻率替換工作

超聲波清洗儀器的應(yīng)用范圍：

1.工業(yè)產(chǎn)品或設(shè)備維護清洗, 如鐘表機芯, 金屬模具, PCB電路板的清洗;

2.分析檢測, 科研機構(gòu)實驗物品精密清洗, 如物理、化學實驗室毛細管, 試管, 燒杯等的清洗;

3.實驗應(yīng)用, 如HPLC樣品上樣前的脫氣, 重金屬含量檢測前的樣品制備(萃取, 溶解)等; 

4.實驗研究, 如液體攪拌、乳化、納米材料分散等; 

5.醫(yī)療器械類物品高難度清洗, 如微創(chuàng)手術(shù)器械粘附的組織, 血液等;

6.食品器具徹底清洗;

7.眼鏡、貴金屬清洗、光學產(chǎn)品高潔凈度清洗;           

涵蓋行業(yè)包括科研單位, 機械, 電子, 化工, 塑料, 檢測, 環(huán)保, 醫(yī)藥, 珠寶, 光學, 軍工, 航天航空, 汽車, 船舶, 牙科, 玩具等;
kelisonic超聲波清洗儀器設(shè)備廣泛應(yīng)用于工業(yè)部件和工件制造商、車間和維修店，制表師、珠寶商、鐘表和珠寶工作坊研究所和分析實驗室。在實驗室中,Kelisonic超聲波清洗儀器設(shè)備還用于樣品制備例如：超聲波溶解，超聲波熱敏孵化，生化檢測，超聲波脫氣混合和溶解（分散、乳化、均質(zhì)、解聚）