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超聲波清洗發(fā)生器

超聲波發(fā)生器:

1、超聲波發(fā)生器,又稱超聲波驅(qū)動電源、超聲波電箱,是大功率超聲系統(tǒng)的重要組成部分

2、超聲波發(fā)生器作用是把市電轉換成與超聲波換能器相匹配的高頻交流電信號,驅(qū)動超聲波換能器工作

3、大功率超聲波電源從轉換效率方面考慮一般采用開關電源的電路形式。

4、超聲波電源分為自激式和它激式電源,自激式電源稱為超聲波模擬電源,它激式電源稱為超聲波發(fā)生器。

產(chǎn)品參數(shù)
專業(yè)表面前處理清洗設備生產(chǎn)商 —— 提供工業(yè)清洗機整體解決方案

超聲波發(fā)生器產(chǎn)品特點

Ultrasonic Generators Product Characteristics


單片機控制,IGBT工作模式,超聲波輸出功率較舊式電路增加15%以上,且連續(xù)無級可調(diào),液晶顯示。


超聲波發(fā)生器裝置工作電壓220 V Ac±10%,超聲波發(fā)生器具有過壓,過流,輸出短路等保護措施。


超聲波發(fā)生器具有功率無級調(diào)節(jié)的功能,輸出功率可實現(xiàn)10~100%的連續(xù)調(diào)整,以適應各種清洗對象的要求。


超聲波發(fā)生器配備有數(shù)字式超聲波工作時間0~999min 設定,精確到秒,實現(xiàn)無人自動值守。



Singlechip-control, IGBT operating mode, the ultrasonic output power is greater than that of the old style circuit by over 15%, and it works in a continuous way without adjustable steps, liquid-crystal display


The ultrasonic generator operating voltage 220 V AC±10%,and ultrasonic generator has various protective measures against the potential dangers of overvoltage, overcurrent and output short-circuit.


The ultrasonic generator has the function of stepless adjustment for its power, and its output power can realize 10~100% continuous adjustment, in order to better suit various objects to be cleaned.


The ultrasonic generator is equipped with digital display of ultrasonic work time 0~999min settings, correct to seconds, and it can control and regulate automatically , needless for care by people.

產(chǎn)品介紹
專業(yè)表面前處理清洗設備生產(chǎn)商 —— 提供工業(yè)清洗機整體解決方案

工業(yè)清洗類的超聲波發(fā)生器的原理是由超聲波發(fā)生器發(fā)出的高頻振蕩信號,通過超聲波振子轉換成高頻機械振蕩而傳播到介質(zhì)清洗溶劑中。超聲波發(fā)生器在清洗液中疏密相間的向前輻射,使液體流動而產(chǎn)生數(shù)以萬計的微小氣泡,存在于液體中的微小氣泡(空化核)在聲場的作用下振動,當聲壓達到一定值時,氣泡迅速增長,然后突然閉合,在氣泡閉合時產(chǎn)生沖擊波,在其周圍產(chǎn)生上千個大氣壓力,破壞不溶性污物而使它們分散于清洗液中,當團體粒子被油污裹著而粘附在清洗件表面時,油被乳化,固體粒子即脫離,從而達到清洗的目的。
半導體超聲波發(fā)生器.png半導體超聲波發(fā)生器的應用范圍:
半導體專用單槽式超聲波清洗機,采用全橋式數(shù)字超聲波發(fā)生器,LED數(shù)顯式時間溫度控制系統(tǒng),核心功率件采用進口,性能更穩(wěn)定,壽命長,先進自動寬頻掃描技術,選擇不同的波段寬度和掃描頻率,提升換能器工件性能,消除駐波,改善超聲波能量分布,與普通超聲波相比效率更高、性能更穩(wěn)定
KP系列超聲波振板用于擴散后的硅片拋光刻蝕、清洗處理,以及搭配雙面電池背面制絨、清洗處理。
Ultrasonic CleanerThis equipment is used for polishing, etching and cleaning treatment of diffused wafers and also compatible for texturing and cleaning treatment of bifacial solar cells.

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